Rambler's Top100 о нас  
наша почта  
контакты  
Продукция
Универсальный вакуумный пост ВН 2000 и ВН 2000 (-08) | Установка вакуумногго напыления ВН-... English  
 
ВАКУУМНАЯ ТЕХНИКА
Вакуумметры
Датчики вакуума
Установки для напыления
Универсальный вакуумный пост ВН 2000 и ВН 2000 (-08)
Аксессуары к универсальному вакуумному посту ВН 2000
Вакуумная установка препарирования электронно-микроскопических объектов
Универсальный вакуумный пост ВН 3000
Аксессуары к универсальному вакуумному посту ВН 3000
Мишени и источники испарения
Насосы и запорная арматура
Системы комплексы напуска газов
Услуги
Нестандартное вакуумное оборудование изготовленное по ТЗ заказчика
МАСС-СПЕКТРОМЕТРЫ
Изотопные
Химические и биохимические
Квадрупольные
ЭЛЕКТРОННЫЕ МИКРОСКОПЫ
Растровые микроскопы
Просвечивающие микроскопы
Дополнительное оборудование
СПЕКТРОМЕТРИЯ
Рентген-флуоресцентные анализаторы
Атомно-флуоресцентные спектрофотометры
Атомно-абсорбционные спектрофотометры
Аксессуары к атомно-абсорбционным спектрофотометрам
Минерализатор
ИК-спектрофотометры
Иммуноферментные анализаторы
Биохимические анализаторы
УФ-ВИД СПЕКТРОФОТОМЕТРЫ
Флюориметры
Пламенные фотометры
Измерители хлоридов
Услуги
ХРОМАТОГРАФЫ
Газовые хроматографы
Устройство пробоподготовки масел УПМ-1
Жидкостные хроматографы
СВАРОЧНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
Электронно-лучевая аппаратура
Точечная сварка
Вакуумный комплекс
Модернизация системы управления ЭЛА
ЛАБОРАТОРНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
Анализаторы азота (блок перегонки) методом Къельдаля
Дигесторы (печи)
Анализаторы афлатоксинов
Анализаторы жиров и масел (по Сокслету)
Анализатор клетчатки
Потенциометрия
Ультразвуковые ванны
УЛЬТРАЗВУКОВЫЕ ДИСПЕРГАТОРЫ
Световые микроскопы
Прибор определения числа падения
Аквадистилляторы электрические
Шкафы сушильные
ЛАБОРАТОРНОЕ ПОСУДА
УСЛУГИ
Ремонт оборудования
Эл.-лучевая сварка в вакууме
Модификация поверхностей
Оптимизация ионно-оптических систем
 
 
 
Поиск по сайту
 
Установка вакуумногго напыления ВН-2000 (-08)


Установка ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно - лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.
Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 °С до 35 °С, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.
Электрическое питание установки должно соответствовать:
Напряжение, В 380/220;
Частота, Гц 50.
Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
Потребляемая мощность установки должна быть не более 3кВА

Автоматическая система управления вакуумной частью ВН-2000 (-08), возможность визуального контроля электрических параметров блоков на цифровом табло, новая элементная база и возможность использования большего числа дополнительных аксессуаров позволяет значительно облегчить работу пользователя и расширить функциональные возможности установки.

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ

3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Габаритные размеры установки:
- стойка аналитическая 470мм х 540мм х 1600мм,
- стойка электрическая 610мм х 630мм х 1670мм.
3.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5•10-4 Па.
3.4 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 °С.
Время нагрева до температуры 300 °С не более 30 мин.
3.5 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения±0,3 кВ.
3.7 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.8 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока - 300 мА.
3.9 Максимальный ионный ток устройства ионного травления 100 мA.
3.10 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,0х10-3 Па за время не более 15 мин.
3.11 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до 200 мA.
3.12 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.
3.13 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.
3.14 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.

УСТРОЙСТВО И ПРИНЦИП РАБОТЫ УСТАНОВКИ

Установка выполнена в виде двух стоек - электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.
В электрической стойке размещены:
- блок распределительный;
- блок питания высоковольтный;
- блок трансформаторов;
- блок управления;
- пульт управления;
- блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.
Сохраняется возможность размещения блоков питания всех дополнительных аксессуаров, представленных на сайте.
В вакуумной стойке расположена вакуумная система.
Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:
- рабочий объем
- система напуска газа в рабочий объем;
- система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.
В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок. Сохраняется возможность установки всего ассортимента дополнительных аксессуаров, представленных на сайте www.ukrrospribor.com.ua



 
 
 
bigmir)net TOP 100
НПП УкрРосПрибор, 2004
Дизайн и программирование "Студия ourNet", 2004