Rambler's Top100 о нас  
наша почта  
контакты  
Продукция
Универсальный вакуумный пост ВН 2000 и ВН 2000 (-08) | Установка вакуумногго напыленияВН 2... English  
 
ВАКУУМНАЯ ТЕХНИКА
Вакуумметры
Датчики вакуума
Установки для напыления
Универсальный вакуумный пост ВН 2000 и ВН 2000 (-08)
Аксессуары к универсальному вакуумному посту ВН 2000
Вакуумная установка препарирования электронно-микроскопических объектов
Универсальный вакуумный пост ВН 3000
Аксессуары к универсальному вакуумному посту ВН 3000
Мишени и источники испарения
Насосы и запорная арматура
Системы комплексы напуска газов
Услуги
Нестандартное вакуумное оборудование изготовленное по ТЗ заказчика
МАСС-СПЕКТРОМЕТРЫ
Изотопные
Химические и биохимические
Квадрупольные
ЭЛЕКТРОННЫЕ МИКРОСКОПЫ
Растровые микроскопы
Просвечивающие микроскопы
Дополнительное оборудование
СПЕКТРОМЕТРИЯ
Рентген-флуоресцентные анализаторы
Атомно-флуоресцентные спектрофотометры
Атомно-абсорбционные спектрофотометры
Аксессуары к атомно-абсорбционным спектрофотометрам
Минерализатор
ИК-спектрофотометры
Иммуноферментные анализаторы
Биохимические анализаторы
УФ-ВИД СПЕКТРОФОТОМЕТРЫ
Флюориметры
Пламенные фотометры
Измерители хлоридов
Услуги
ХРОМАТОГРАФЫ
Газовые хроматографы
Устройство пробоподготовки масел УПМ-1
Жидкостные хроматографы
СВАРОЧНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
Электронно-лучевая аппаратура
Точечная сварка
Вакуумный комплекс
Модернизация системы управления ЭЛА
ЛАБОРАТОРНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
Анализаторы азота (блок перегонки) методом Къельдаля
Дигесторы (печи)
Анализаторы афлатоксинов
Анализаторы жиров и масел (по Сокслету)
Анализатор клетчатки
Потенциометрия
Ультразвуковые ванны
УЛЬТРАЗВУКОВЫЕ ДИСПЕРГАТОРЫ
Световые микроскопы
Прибор определения числа падения
Аквадистилляторы электрические
Шкафы сушильные
ЛАБОРАТОРНОЕ ПОСУДА
УСЛУГИ
Ремонт оборудования
Эл.-лучевая сварка в вакууме
Модификация поверхностей
Оптимизация ионно-оптических систем
 
 
 
Поиск по сайту
 
Вакуумный универсальный пост ВН 2000 (модернизированный аналог ВУП-5М)

Увеличить (5 Кб)
Вакуумный универсальный пост ВН 2000 предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью методом магнетронного распыления, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов.

Прибор может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях науки и техники.

Прибор предназначен для эксплуатации в стационарных лабораторных условиях при температуре окружающего воздуха от 15 до 25oС и относительной влажности не более 80%. Наличие в помещении агрессивных паров недопустимо.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ

Питание прибора осуществляется от трехфазной сети переменного тока напряжением 220/380 V, частотой 50 Нz .

Масса прибора, кg, не более 300
Габаритные размеры, mm, не более: длина 540
ширина 910
высота 1550
Потребляемая мощность без приставок, кVA, не более 1,9
Максимальная потребляемая мощность, кVА, не более 5

ОСНОВНЫЕ ПАРАМЕТРЫ И ХАРАКТЕРИСТИКИ
  • Остаточное давление в высоковакуумном объеме пpи охлаждении ловушки жидким азотом 1,3 × 10-4 Pa.
  • Остаточное давление в высоковакуумном объеме при охлаждении ловушки водой 1,3 × 10-3 Ра.
  • Ток накала испарителей 200 А.
  • Температура столика для нагрева объектов 1100oС.
  • Температура столика для охлаждения объектов, oС, минус 160 .
  • Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя 7 к V.
  • Максимальный ток тлеющего разряда 47 m A.
  • Максимальное напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя источника питания магнетрона, кV, не менее 0,9.
  • Максимальный ток магнетрона, mА, не менее 300.
  • Температура в районе подложки устройства для осаждения пленок не менее 300oС. Время нагрева не более 30 min.
  • Время смены подложек не более 7 s , скорость вращения подложек не менее 0,5 s -1.
  • Заслонка устройства смены подложек обеспечивает перекрытие потока испаряемого вещества от испарителя к подложкам .
  • Устройство дискретного испарения обеспечивает подачу на испаритель в процессе испарения измельченного вещества.
  • С помощью пультов управления обеспечивается выход в рабочий режим вакуумной системы из холодного состояния и коммутация вакуумной системы во время работы.
Магнитораспыляющая система обеспечивает:
  • универсальность процесса, что позволяет получить пленки металлов, сплавов и полупроводников;
  • высокую скорость осаждения с возможностью ее регулирования в широких пределах;
  • сохранение соотношения компонентов при распылении вещества сложного состава;
  • получение особо чистых пленок;
  • высокую адгезию пленок и подложки;
  • возможность изменения структуры и свойств пленок;
  • распыление нескольких материалов без разгерметизации объема;
  • низкую пористость пленок даже при малых толщинах;
  • небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую структуру;
  • высокую энергетическую эффективность процесса;
  • использование для осаждения и травления широкого класса материалов.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Диаметр мишени, mm 40
Максимальный диаметр подложки, mm 70
Питание магнетрона: максимальный ток, mА 350
Напряжение высоковольтного выпрямителя, kV 1

 
 
 
bigmir)net TOP 100
НПП УкрРосПрибор, 2004
Дизайн и программирование "Студия ourNet", 2004